リソグラフィーの工程において、フォトレジストを加熱する際に1℃もの温度変動があるというのは、「わずかな偏差」とは言えません。それは、単純に歩留まりに悪影響を与える要因です。ウェーハは厳格な熱管理が求められます。もし加熱装置が均一な温度を維持できない場合、視野内に欠陥が生じたり、再現性の問題が発生したりします。私たちは、この装置を、工程の要求に応じて温度を安定させるように設計しました。つまり、部屋全体の温度ではなく、工程自体に合わせて温度をコントロールするのです。
技術的に重要な点 この装置は、クォーツ製のケース内にある短波赤外線素子を使用しているため、迅速な反応速度と低い熱慣性を実現しています。装置全体の負荷においても、温度の均一性は±0.1℃以内に保たれ、再現性も非常に高いため、ソフトベイクやハードベイクのプロセスでも温度が変動することはありません。クリーンルームの要件に対応するため、クラス1～100に適合した材料を使用し、ガス放出を抑え、粒子の発生を防ぐ構造になっています。標準的な接続端子を通じて装置を制御でき、24時間体制で出力を安定させることができます。これにより、温度の変動を抑え、熱処理プロセスを保護することができます。
なぜこの装置が化学処理用のキャビネットで機能するのか キャビネット内では、このヒーターがフォトレジストや関連する材料を、工程で指定された正確な温度に保ちます。この精度により、ウェーハの加熱時間が短縮され、寸法の管理が容易になり、温度の不均一性によって生じる不良品も減少します。また、システムが迅速に設定値に到達し、オーバーシュートしないため、エネルギー消費も抑えられます。これにより、電力供給や施設への負担も軽減されます。信頼性としては、停止時間が少なく、メンテナンスの必要も少なく、ウェーハの生産速度も安定します。
実際に必要な詳細 設置時には、キャビネットの空気流れや排気経路を考慮する必要があります。再循環が適切に行われ、排気口のサイズが適切であれば、ヒーターは正常に機能します。ほとんどのキャビネットに適用可能ですが、既存の制御システムを使用している場合は、現地でインターフェースを確認する必要があります。PIDプロファイルの調整には、約1日程度の時間がかかります。その後は、工場が求める再現性を持ってプロセスが実行されます。