ウェーハ酸化用加熱素子

製造現場において、酸化処理中の温度変動は、単に歩留まりを低下させるだけでなく、それを完全に破壊してしまうこともあります。ウェーハ上の数十分の度の温度差があるだけで、酸化膜の厚みの不均一性やゲート酸化膜の損傷リスク、そしてフォトレジストの乾燥過程でのばらつきが生じ、これが直接リソグラフィ工程に影響を...