ウェーハヒーターが混乱を引き起こすのを防ぎましょう。 高負荷な環境下では、ランプが壊れると大変な問題になります。単に稼働停止だけでなく、後片付けも大変です。石英製のケースが破裂すると、ガラスの破片や金属の汚れがウェーハの上に降り注ぎます。その結果、作業したウェーハは使い物にならなくなり、何時間もか...

クリーンルームの環境を壊さずにシリコンウェーハを加熱する方法 クラス100のクリーンルームで作業する際、たった一つのほこりの粒子でも大問題になります。シリコンウェーハを加熱するときは、材料が剥がれ落ちたり、ガスが空中に漏れ出したりしてはいけません。通常の加熱要素なんて使えません。そうしたものは粒子...

クラス100のクリーンルームを実際に清潔な状態に保つために ウェーハを処理するとき、ほんのわずかなほこりでさえも大問題です。それは生産効率を著しく低下させます。問題は、一般的な加熱要素が「汚れている」ということです。必要な時には、微細な破片やガスが発生してしまいます。 そのため、私たちは赤外線ラン...

装置を加熱するのはやめよう：MEMSウェーハをより効率的に乾燥させる方法 MEMSセンサーのウェーハを乾燥させる際、水分を完全に取り除くことが求められます。しかし、多くの人々は、見える範囲内のすべてのものを加熱することでそれを試みています。 通常の対流式や全方位加熱では、高価な半導体製造装置が巨大...

製造現場において、酸化処理中の温度変動は、単に歩留まりを低下させるだけでなく、それを完全に破壊してしまうこともあります。ウェーハ上の数十分の度の温度差があるだけで、酸化膜の厚みの不均一性やゲート酸化膜の損傷リスク、そしてフォトレジストの乾燥過程でのばらつきが生じ、これが直接リソグラフィ工程に影響を...

ウェーハ乾燥装置は、スピントラックとホットプレートのちょうど真ん中に位置しています。もしそのランプの位置がずれると、温度均一性が失われてしまいます。その結果、ソフトベイクやハードベイクの温度も不安定になり、寸法のばらつきも生じます。これにより、不良品が増えたり、再加工が必要になったり、予期せぬ停止...

ライン上では、300 mmウェハーがソフトベイクを待機しており、これがライン幅制御を決定づける。ホットプレートの温度プロファイルに2°Cの乱れがあれば、重要寸法が1 nm以上変動する。温度がずれるたびに、廃棄されるロットが増えることになる。この環境に対応するために、当社はウェハーツール用の温度セン...

リソグラフィ工程において、フォトレジストのベーク中に0.3°Cの温度ドリフトが発生すると、制御された工程が不良品に変わることになる。ウェハの熱予算は交渉の余地がなく、守るか代償を払うかのどちらかだ。我々はこの現実に基づいて赤外線クォーツランプを設計している。プロセスは繰り返し可能な熱を要求するため...

ファブフロアでは、フォトレジストのプロファイルがソフトベイクおよびハードベイクで確定される。ウェーハ全体でわずか0.5度の温度変動が、クリティカルディメンションのシフト、オーバーレイのズレ、そして数時間に及ぶリソグラフィ作業の無駄を招くことがある。硬化ランプのリフレクターは単なる受動部品ではなく、...