Verhindern Sie, dass Ihre Waferheizer zu einer Quelle von Unordnung werden In einer Anlage mit hohem Aufkommen an Wafern ist ein defekter...

Wie man Siliziumwafers erhitzen kann, ohne die Reinraumumgebung zu verunreinigen Wenn man in einem Reinraum der Klasse 100 arbeitet, bedeutet bereits...

Wie man seine Klasse-100-Reinraumumgebung wirklich sauber hält Wenn man Wafern verarbeitet, ist schon ein einziger Staubkorn kein bloßer Ärgernis –...

Hören Sie auf, Ihre Geräte zu erhitzen – eine intelligentere Methode zum Trocknen von MEMS-Wafern Wenn man MEMS-Sensorwafern trocknen will, muss...

In der Fertigungsstätte führen thermische Schwankungen während der Oxidationsprozesse nicht nur dazu, dass die Ausbeute sinkt – sie können sie sogar...

Im Fertigungsbereich befindet sich der Wafer-Trockner direkt zwischen der Rotationsbahn und der Heizplatte. Wenn die Lampen des Trockners nicht exakt...

Auf der Linie sitzt der 300 mm Wafer und wartet auf das Softbake, das Ihre Linienbreitenkontrolle festlegt. Ein 2°C-Ausreißer im Hotplate-Profil? Das...

Auf dem Lithografie-Floor kann eine Abweichung von 0,3°C während des Photoresist-Backens aus einem kontrollierten Lauf Ausschuss machen. Das...

Out on the fab floor wird das Photoresist-Profil während des Soft Bake und Hard Bake festgelegt. Eine Drift von nur einem halben Grad über den Wafer...