In der Fertigungshalle führt eine Strukturgröße von 5 Nanometern dazu, dass die thermische Homogenität beeinträchtigt wird. Das Trocknen der Wafer...

In der Fertigungsbühne sind die Schritte des Weichbrennens und Hartbrennens nicht einfach nur „Erhitzungsschritte“. Es handelt sich dabei um...

Auf dem Lithografie-Floor kann eine Abweichung von 0,3°C während des Photoresist-Backens aus einem kontrollierten Lauf Ausschuss machen. Das...