Op een lijn van 300 mm kan een verschil van 0,3 °C tijdens het zachte bakproces ertoe leiden dat de specificaties voor de CD-bias niet meer worden nageleefd. Dit kan tot verspilling van een hele lading leidden. Er is geen behoefte aan nog een variabele in het thermische systeem. Onze infraroodverwarmer voor schone kamers is ontworpen om deze onzekerheden weg te nemen.
Wat technisch gezien belangrijk is
Wij gebruiken kortegolf-infraroodemitters met een snelle reactietijd en nauwkeurige spectrumcontrole. Deze emitters zijn afgestemd op de absorptie van standaardfotoresistlagen. Over het hele procesgebied blijft de uniformiteit op het niveau van ±0,1 °C. De herhaalbaarheid zorgt er bovendien voor dat de bakprofielen elke keer hetzelfde zijn.
Het apparaat is ontworpen voor gebruik in schone kamers van klasse 1–100: er worden materialen gebruikt die weinig gassen afgeven, de oppervlakken zijn glad en de luchtcirculatie is zo ontworpen dat er geen deeltjes vrijkomen. Het minimaliseren van deeljevorming is geen marketingtruc – het is een vereiste die in het ontwerp is verwerkt en wordt gecontroleerd door middel van monitoring.
Waarom dit past bij de productiefaciliteit
Hier bepaalt de verwerking van fotoresist de snelheid van het proces: lithografie, zacht bakken, hard bakken en alle andere stappen in het proces. Infrarood zorgt voor de gewenste thermische respons in een oven met hoge productiesnelheid. Het ontwerp dat geschikt is voor schone kamers zorgt er bovendien voor dat de defecten onder controle blijven.
Het voordeel is dat er minder wafer worden verspild, de kritieke dimensies stabiel blijven en de cyclustijden voorspelbaar zijn. Ook de energieverbruik neemt af: de verwarmer bereikt snel het gewenste temperatuurniveau en houdt dat vast, zonder dat er sprake is van overdreven temperaturen.
Wat je van tevoren moet weten
De verwarmer past in de standaardinterfaceën van ovens. Echter, de thermische massa van de oven en de belasting blijven invloed hebben op de uniformiteit. Je moet dus precies weten hoeveel materiaal er in de oven komt te staan. Controleer ook de luchtcirculatie tijdens de integratie.
In ruimtes waar weinig ruimte is, kan het nodig zijn om de indeling van de emitters aan te passen. Wij geven de grenscondities al vroeg door, zodat de oven past bij het proces – en niet andersom.