Üretim alanında, 5nm boyutundaki hatlar, termal düzensizliklerin ortaya çıkmasına neden olur. Wafer’in kurutulması, yumuşak pişirme ve sert pişirme...

Üretim tesisisinde, yumuşak pişirme ve sert pişirme işlemleri sadece “ısıtma adımları” değildir. Bunlar, 2°C’lik bir değişikliğin bile ürün...

Litografi katında, fotoresist pişirme sırasında 0.3°C’lik bir sapma, kontrollü bir çalışmayı hurdaya çevirebilecek türden bir durumdur. Wafer termal...