Элемент нагрева для оксидации ваферов
На производственной площадке температурные колебания во время процесса окисления не только снижают качество изделий, но и делают его полностью...
Лампа для сушки пластин замена лампочки
На производственной площадке сушилка для вафер располагается прямо между устройством для вращения вафер и горячей платой. Если лампы смещаются со...
Датчик температуры для инструмента обработки пластин
На линии находится 300 мм пластина, ожидающая мягкого обжига, который задаёт контроль ширины линий. Отклонение в 2°C в профиле нагревательной...
Инфракрасная кварцевая лампа для пластин
На литографическом участке отклонение температуры на 0,3°C во время сушки фоторезиста превращает контролируемый процесс в брак. Тепловой бюджет...
Отражатель для лампы отверждения пластин
Out on the fab floor, the photoresist profile is nailed down during soft bake and hard bake. A half-degree drift across the wafer is enough to shift...