Temperatuursensor voor waferapparaat

Wed, 03 Jun 2026 12:23:02 +0800

Op de lijn ligt die 300 mm wafer te wachten op de soft bake die jouw lijnbreedteregeling vastlegt. Een afwijking van 2°C in het hotplate-profiel? Dat is genoeg om de kritische dimensie met meer dan 1 nm te verplaatsen, en elke cyclus die afwijkt is weer een batch die richting de afvalstapel gaat. We hebben onze temperatuursonde voor wafers precies voor deze omgeving ontworpen, waar het thermische budget geen aanbeveling is, maar een harde grens.

Wat er onder de motorkap telt
Je krijgt ±0,1°C stabiliteit over het volledige bake-venster van 200–250°C, met kalibratie die traceerbaar is naar NIST. De responstijd is minder dan 150 ms, zodat gesloten-lusregeling setpointverschuivingen kan opvangen voordat de fotoresist begint te driften. De sondelichaam is van kwarts en roestvrij staal, afgedicht met een epoxy met lage uitgassing, en is geschikt voor Class 1–100 cleanrooms met deeltjesgeneratie onder 0,1 deeltje/cm². De uitgang is 4–20 mA met RS-485 en Modbus RTU, en de 1/4-20 schroefdraadmontage past rechtstreeks in standaard hotplates van wafertooling—adapterplaten zijn niet nodig.

Reflector voor wafer uithardingslamp

Mon, 01 Jun 2026 20:20:53 +0800

Out on the fab floor wordt het fotoresistprofiel vastgelegd tijdens de soft bake en hard bake. Een afwijking van een halve graad over de wafer is voldoende om kritische afmetingen te verschuiven, overlay te verstoren en uren lithografiewerk te vernietigen. De Reflector in de uithardingslamp is geen passief onderdeel — hij bepaalt het thermische budget dat het proces reproduceerbaar houdt.
Wat telt onder de motorkap
Deze reflector is ontworpen voor wafer-uithardingslampen in de halfgeleiderproductielijn. Hij houdt de thermische uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C, voldoet aan cleanroomklassen 1–100 en is geconstrueerd voor nul deeltjesgeneratie. De kwartsreflector houdt het vermogen stabiel tijdens 24/7 gebruik, met units die meer dan 5.000 uur draaien en minder dan 5% in output verliezen. Van run tot run, van shift tot shift, krijg je telkens hetzelfde temperatuurprofiel en dezelfde fotoresistrespons.
Waarom hij standhoudt in productie
Deze reflector vertaalt zich in consistente fotoresistverwerking. In de bake track wordt de setpoint over de hele wafer gerealiseerd, wat edge bead vermindert en de CD-controle aanscherpt. Het resultaat is minder herwerkingsseries, lagere uitval en cyclustijden waarop je kunt plannen. Het energieverbruik daalt omdat de warmte op de wafer gericht blijft in plaats van weg te lekken naar de kamerwanden. Je krijgt consistente soft bake- en hard bake-profielen, zelfs wanneer de lijn gemixte producten en krappe series draait.
Wat je goed moet doen
De installatie hangt af van een nauwkeurige uitlijning van de lamp met de brandpuntsas van de reflector — een afwijking van slechts enkele milliradialen kan hotspots veroorzaken en uniformiteit doen verdwijnen. De reflector werkt met standaard halogeen- en kortegolf-lamparmaturen, maar je moet nog steeds de tool-specifieke montagesteunen voor elk trackmodel verifiëren. Na de wissel voer je een snelle kwalificatie uit: controleer de temperatuuruniformiteit en het aantal deeltjes voordat je het gereedschap weer in productie neemt.

Wafer on Top-Rated Quartz IR Lamps

Temperatuursensor voor waferapparaat

Reflector voor wafer uithardingslamp