Mengeringkan on Top-Rated Quartz IR Lamps

Pemanas untuk pengeringan wafer sensor MEMS

Fri, 17 Jul 2026 07:07:42 +0800

Hentikan cara memanaskan peralatan anda secara langsung: Cara yang lebih bijak untuk mengeringkan wafer MEMS

Ketika anda ingin mengeringkan wafer sensor MEMS, anda pasti ingin agar kelembapan dihilangkan sepenuhnya. Namun masalahnya ialah kebanyakan orang cuba melakukannya dengan memanaskan semua bahagian peralatan tersebut.

Pemanasan konvensional atau pemanasan serata akan menjadikan alat semikonduktor yang mahal itu seperti ketuhar besar. Dinding dalaman peralatan tersebut akan menyerap haba yang berlebihan, dan ini merupakan masalah besar. Akibatnya, dinding tersebut menjadi terlalu panas sehingga boleh membahayakan pengendali peralatan tersebut atau merosakkan komponen dalaman peralatan tersebut. Ini merupakan situasi yang kacau.

Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan fabrik

Tue, 14 Jul 2026 10:50:42 +0800

Mengelakkan Kebakaran di Kilang Kimia: Cara Lebih Baik untuk Menguruskan Proses Pengeringan menggunakan Cahaya Inframerah
Sejujurnya, proses pengeringan di kilang kimia boleh menjadi sangat berisiko. Terdapat bahan pembersih yang mudah terbakar di udara, dan lampu inframerah berintensiti tinggi digunakan untuk proses pengeringan tersebut. Jika lampu tersebut rosak atau berlaku arus elektrik yang tidak terkawal, maka ia sama seperti mempunyai penyuntik api di dalam bilik yang penuh dengan bahan bakar. Ini pasti akan menyebabkan masalah besar.

Lampu pengering paparan fleksibel fab

Mon, 08 Jun 2026 05:07:15 +0800

Pada lantai pengilangan paparan fleksibel, pembakaran photoresist bukan sekadar “pemanasan.” Ia adalah keputusan bajet terma—perubahan suhu terus diterjemahkan kepada ralat dimensi pada peranti siap. Sekiranya profil soft bake atau hard bake anda terlajak sedikit pun, anda akan melihat hasil penurunan dengan cepat pada substrat yang rapuh tersebut.

Apa yang penting, secara teknikal

Kami membina lampu pengering berdasarkan inframerah gelombang pendek terkawal, supaya ia memanaskan wafer dengan cepat, tanpa sentuhan, dan mengekalkan keseragaman tahap wafer dalam ±0.1°C. Laluan optik kuarza dan peralatan rendah pengeluaran gas memastikan tiada penghasilan zarah—kerana dalam bilik bersih Kelas 1–100, satu zarah pun boleh merosakkan barisan. Ketepatan suhu photoresist dikekalkan berulang kali dari lot ke lot, dan profil terma tetap stabil walaupun operasi berjalan 24/7.