Di lantai pembuatan, proses pengeringan photoresist yang menyimpang walaupun 0.2°C boleh mengubah dimensi kritikal dan menghantar banyak wafer ke timbunan sisa. Kami membina pemanas troli bilik bersih semikonduktor untuk menghilangkan variabiliti itu dari persamaan.
Apa yang penting, dari segi teknikal, adalah keseragaman suhu di seluruh beban—±0.1°C—dan kawalan kenaikan yang boleh diulang untuk kedua-dua profil pengeringan lembut dan keras. Pemanas menggunakan reka bentuk yang rendah profil dan sesuai dengan bilik bersih dengan elemen yang tertutup dan bahan gred HEPA untuk memastikan penghasilan partikel serendah mungkin. Aliran udara adalah laminar, bukan turbulen, jadi anda tidak mengganggu alat litografi yang berdekatan atau mengambil risiko mencemari permukaan wafer. Gelung kawalan disetel untuk menyelesaikan dengan cepat setelah pintu dibuka, kerana perubahan barisan tidak menunggu kestabilan terma.
Berikut adalah sebabnya ia berfungsi di tempat yang penting. Pemanas terletak di dalam troli, memanaskan wafer sebelum mereka mencapai plat panas. Ini memberi anda anggaran terma yang stabil sebelum pendedahan dan pengeringan, mengurangkan kerja semula, dan kawalan CD yang lebih ketat. Keserasian bilik bersih—bahan dan kemasan yang dinilai Kelas 1 hingga 100—menjaga jumlah partikel rendah dan melindungi hasil. Anda juga menjimatkan tenaga, kerana troli menahan haba dan tidak bergantung pada oven utama untuk setiap pemanasan.
Beberapa nota praktikal. Pemasangan memerlukan sumber kuasa bersih yang khusus dan pengaliran yang betul untuk mengelakkan mikro-getaran dan bunyi elektrik daripada mengganggu sensor kawalan. Jejaknya padat, tetapi anda perlu mengekalkan ruang di sekitar laluan aliran udara; jika tidak, keseragaman akan terjejas. Dan rancang untuk kalibrasi rutin di peringkat troli. Bahkan pemanas terbaik boleh menyimpang dari masa ke masa tanpa jendela metrologi yang ditentukan.