Di bilik pemprosesan wafer, perubahan suhu sebanyak 0.1°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk mengganggu keseragaman ketebalan lapisan bahan tersebut. Perubahan suhu seperti ini akan menyebabkan kerja-kerja litografi yang telah dilakukan menjadi sia-sia. Oleh itu, kami mencipta pengawal kuasa jenis SCR untuk menjaga suhu lampu tetap stabil, dari masa ke masa dan dari tahun ke tahun.
Yang penting dari segi teknikalnya ialah penggunaan litar kawalan jenis silicon-controlled rectifier bersama-sama dengan mekanisme maklum balas daripada lampu itu sendiri. Ini memastikan keluaran tetap stabil walaupun voltan berubah-ubah. Nilai suhu yang diinginkan kekal dalam lingkungan ±0.1°C sepanjang proses pembakaran, agar proses pembakaran dapat berjalan secara konsisten.
Peranti ini direka untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, di mana tiada zarah atau gas yang terhasil, dan spesifikasi yang ditetapkan dapat dipenuhi. Korreksi faktor kuasa serta penggunaan suis yang efisien membantu mengurangkan penggunaan tenaga. Selain itu, kepala lampu mampu menangani perubahan suhu yang cepat tanpa menyebabkan retakan atau pemisahan lapisan bahan.
Mengapa cara ini berkesan dalam proses pemprosesan wafer? Keseragaman suhu merupakan faktor penting untuk mengawal ketebalan lapisan bahan fotoresist. Dengan adanya pengawal kuasa jenis SCR, suhu lampu dapat dikawal dengan baik, sehingga profil lapisan bahan fotoresist tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Ini membolehkan proses pemprosesan berjalan dengan lebih efisien, tanpa perlu melakukan pengulangan kerja atau membuang bahan yang tidak berkualiti.
Ketahanan peranti ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa henti. Dalam praktiknya, ini bermakna kadar pengeluaran dapat ditingkatkan tanpa perlu menyimpan stok gantian yang banyak.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan: Peranti ini memerlukan sumber kuasa yang bersih dan sistem penggrounding yang baik, agar gangguan EMI dan perubahan voltan dapat dikurangkan. Jika peranti ini akan digunakan bersama-sama dengan sistem pemprosesan lama, lakukan ujian pendek untuk menyesuaikan nilai PID sesuai dengan beban lampu yang digunakan.
Proses penyesuaian boleh dilakukan dalam masa sehari sahaja. Namun, perlu ada waktu untuk menstabilkan suhu sistem pada batch wafer pertama. Setelah disesuaikan, proses pemprosesan dapat berjalan secara konsisten tanpa campur tangan yang banyak.