Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan bahan photoresist bukanlah “perbezaan yang kecil”. Ia merupakan masalah yang serius yang boleh menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan. Wafer memerlukan kawalan suhu yang tepat; jika pemanas dalam kotak tersebut tidak mampu mengekalkan suhu yang stabil dan bersih, ia akan menyebabkan masalah berkaitan kualiti produk. Kami telah membina pemanas ini agar sesuai dengan keadaan sebenar di bilik litografi – iaitu suhu yang stabil mengikut proses yang ditetapkan, bukan hanya berdasarkan suhu di dalam bilik tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Pemanas ini menggunakan elemen inframerah gelombang pendek yang terletak di dalam pelindung kuarsa. Ini membolehkan tindak balas yang cepat serta inersia termal yang rendah. Suhu di dalam kotak pemanas tetap stabil pada tahap ±0.1°C, dan ketepatan proses pemanasan juga sangat tinggi, sehingga profil pemanasan tidak berubah dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Keperluan bilik bersih dipenuhi dengan penggunaan bahan-bahan yang sesuai untuk kelas 1–100, serta reka bentuk yang dapat mengurangkan pelepasan gas dan pembentukan zarah-zarah berbahaya. Pemanas ini disambungkan ke sistem kawalan kotak tersebut melalui sambungan standard, dan ia dapat mengekalkan suhu yang stabil sepanjang masa, sekali gus mengurangkan perubahan suhu dan melindungi kitaran pemanasan.
Mengapa pemanas ini efektif di dalam kotak kimia
Di dalam kotak tersebut, pemanas ini dapat mengekalkan suhu bahan photoresist dan bahan-bahan lain pada suhu yang tepat seperti yang ditetapkan dalam proses pengeluaran. Ketepatan ini memendekkan masa pemanasan, memastikan kawalan dimensi yang tepat, dan mengurangkan pembaziran bahan akibat perubahan suhu yang tidak terkawal. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana sistem ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat tanpa melebihi hadnya. Ini seterusnya mengurangkan beban pada sistem utiliti dan fasiliti tersebut. Kebolehpercayaan pemanas ini dapat dilihat daripada masa operasi yang stabil, dengan sedikit gangguan dan pembaikan yang diperlukan. Kelajuan pengeluaran wafer juga tetap stabil.
Butiran praktikal yang perlu diketahui
Pemasangan pemanas ini perlu mengambil kira aliran udara dan saluran pengudaraan di dalam kotak tersebut. Pemanas ini akan berfungsi dengan baik apabila aliran udara seimbang dan saiz saluran pengudaraan sesuai. Ia boleh digunakan bersama kebanyakan jenis kotak pemanas. Namun, jika anda menggunakan sistem kawalan lama, anda perlu memastikan antaramuka yang digunakan sesuai. Anda mungkin memerlukan sedikit masa untuk menyesuaikan tetapan PID pemanas tersebut – kira-kira satu hari. Selepas itu, proses pengeluaran akan berjalan dengan ketepatan yang tinggi.