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		<title>산화 on Top-Rated Quartz IR Lamps</title>
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				<title>와이퍼 산화 가열 소자</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://top-quartz-ir.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;와이퍼 산화 가열 소자&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;웨이퍼 제조 공정에서 산화 과정 중 발생하는 온도 변동은 단순히 생산 효율에 영향을 미치는 것이 아니라, 생산 자체를 무너뜨릴 수도 있습니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 몇 십 분의 1도 정도의 온도 변동만 있어도 산화물의 두께가 불균일해지고, 게이트 산화막의 안정성에 문제가 생기며, 포토레지스트 처리 과정에서도 변동이 생깁니다. 이러한 변동들은 결국 리소그래피 공정에도 영향을 미칩니다. 따라서 가열 요소는 마치 공정의 일부처럼 작동해야 하며, 별도로 관리해야 하는 변수가 되어서는 안 됩니다.&lt;/p&gt;</description>
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