Lampada al quarzo a infrarossi per wafer

Tue, 02 Jun 2026 06:05:19 +0800

Sul piano di litografia, una deriva di 0,3°C durante la cottura del photoresist è il tipo di variazione che trasforma una produzione controllata in scarto. Il budget termico del wafer non è negoziabile: o si rispetta o si paga. Abbiamo progettato le nostre lampade al quarzo a infrarossi intorno a questa realtà, perché il processo richiede calore ripetibile, punto.

Cosa conta, tecnicamente
Utilizziamo emettitori al quarzo a infrarossi a onde corte per un trasferimento di energia rapido e diretto con risposta sub-secondo. Sul wafer, l’uniformità termica si mantiene entro ±0,1°C, e la ripetibilità da ciclo a ciclo resta entro ±0,5°C. Il corpo lampada e la geometria del riflettore sono progettati per ridurre il calore disperso e le ombreggiature, in modo che il profilo termico resti allineato con il campo patternato. L’output è stabile da 200°C a 650°C con un controllo spettrale rigoroso, che protegge l’integrità del photoresist sia durante il soft bake che l’hard bake. La costruzione compatibile con cleanroom mantiene bassa la generazione di particelle, quindi è adatta agli ambienti Class 1–100.

Quarzo on Top-Rated Quartz IR Lamps

Lampada al quarzo a infrarossi per wafer