Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer

Thu, 25 Jun 2026 04:45:27 +0800

Nelle linee di produzione, le variazioni termiche durante l’ossidazione non influiscono soltanto sulla resa dei processi produttivi, ma possono addirittura annullarla completamente. Anche pochi decimi di grado di variazione nella temperatura del wafer possono causare irregolarità nell’espessore dell’ossido che lo ricopre, riducendo così l’integrità dello strato di ossido stesso. Inoltre, tali variazioni influiscono anche sulla qualità del fotoretino utilizzato nei processi di litografia. È quindi fondamentale utilizzare elementi di riscaldamento che fungano da parte integrante del processo produttivo, e non come variabili da gestire separatamente.

Ossidazione on Top-Rated Quartz IR Lamps

Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer