Riflettore per lampada di polimerizzazione dei wafer

Mon, 01 Jun 2026 20:20:53 +0800

Out on the fab floor, il profilo del fotoresist viene definito durante il soft bake e l’hard bake. Uno scostamento di mezzo grado sull’intero wafer è sufficiente a spostare le dimensioni critiche, compromettere l’overlay e annullare ore di lavoro di litografia. Il riflettore nella lampada di reticolazione non è un componente passivo — modella il budget termico che garantisce la ripetibilità del processo.

What matters under the hood
Questo riflettore è progettato per lampade di reticolazione wafer nella linea semiconduttori. Mantiene l’uniformità termica a livello wafer entro ±0,1°C, rispetta le classi di cleanroom da 1 a 100 ed è ingegnerizzato per generazione zero di particelle. Il riflettore in quarzo mantiene stabile l’output sotto funzionamento 24/7, con unità che operano oltre 5.000 ore e perdite inferiori al 5% di potenza. Da ciclo a ciclo, da turno a turno, si ottiene lo stesso profilo termico e la stessa risposta del fotoresist, ogni volta.

Curatura on Top-Rated Quartz IR Lamps

Riflettore per lampada di polimerizzazione dei wafer