Lampu kuarsa dengan filamen tungsten
Di lantai produksi, proses pembuatan chip berukuran 5nm terhambat akibat fluktuasi suhu yang tidak stabil. Proses pengeringan wafer, soft bake, dan...
Lampu kuarsa inframerah untuk wafer
Pada lantai litografi, pergeseran suhu sebesar 0,3°C selama proses pemanggangan photoresist adalah hal yang dapat mengubah proses yang terkendali...