Bersih on Top-Rated Quartz IR Lamps

Pemanas inframerah untuk ruang bersih

Tue, 28 Jul 2026 05:05:34 +0800

Berhentilah memanaskan udara—mulailah memanaskan komponen yang benar-benar perlu dipanaskan.
Di ruang bersih untuk produksi semikonduktor, memanaskan hal yang salah bukan hanya merupakan pemborosan energi listrik, tetapi juga berpotensi menimbulkan bahaya keselamatan. Jika Anda menggunakan pemanas konvensional, pada dasarnya Anda sedang memanaskan udara dan seluruh bagian mesin. Hal ini akan menyebabkan dinding-dinding dalam mesin menjadi sangat panas, sehingga dapat membakai pekerja atau merusak komponen-komponen sensitif yang seharusnya dilindungi.

Kami menangani masalah ini dengan cara yang berbeda. Kami menggunakan teknologi inframerah terarah.

Lampu inframerah untuk meja di ruang bersih

Mon, 20 Jul 2026 11:35:49 +0800

Mengatur Suhu Wafer dengan Tepat

Saat bekerja menggunakan lampu inframerah di ruang bersih, tujuannya sangat sederhana: mengarahkan panas ke tempat yang memang diperlukan. Anda tidak ingin membuang-buang energi, dan tentu saja tidak ingin merusak lingkungan sekitar. Itulah mengapa kita menggunakan reflektor berlapis emas. Reflektor ini memastikan bahwa radiasi inframerah tetap mengenai wafer, bukannya hanya membuat bagian lampu menjadi panas tanpa alasan yang jelas.

Mengapa emas?

Kebanyakan orang menggunakan reflektor berbahan aluminium. Namun, aluminium sebenarnya menyerap sebagian dari radiasi inframerah tersebut. Emas berbeda; emas memiliki kemampuan reflektif yang luar biasa di rentang inframerah, sehingga panas dapat dikirim ke wafer dengan lebih efektif.

Peningkatan peralatan ruang bersih di pabrik

Wed, 15 Jul 2026 10:04:41 +0800

Mengapa Kita Mengganti Oven Konvensional dengan Oven IR di Pabrik Jika saat ini Anda sedang merenovasi ruang bersih di pabrik Anda, kemungkinan besar Anda merasa tertekan. Anda harus memenuhi target penggunaan energi yang ramah lingkungan, mematuhi aturan penggunaan bahan tanpa timbal, dan harus bekerja sesuai tenggat waktu yang ketat.

Oven konvensional yang lama? Ukurannya terlalu besar dan proses pemanasannya sangat lambat. Sebagian besar waktu digunakan untuk memanaskan udara di sekitar wafer, padahal itu sama saja dengan membuang-buang uang dan listrik secara sia-sia. Itulah mengapa kita beralih ke penggunaan oven inframerah (IR).

Pemanas inframerah untuk oven di ruang bersih

Thu, 02 Jul 2026 08:45:20 +0800

Pada garis produksi sepanjang 300 mm, perubahan suhu sebesar 0,3°C selama proses pemanasan dapat menyebabkan nilai bias CD melebihi batas yang ditentukan, sehingga seluruh produk yang dihasilkan menjadi tidak layak digunakan. Anda tidak memerlukan variabel tambahan dalam proses pengontrolan suhu tersebut. Pemanas inframerah yang digunakan di ruang bersih kami dirancang untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut.

Yang penting secara teknis: Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah dengan respons cepat dan kontrol spektral yang akurat, sehingga cocok untuk proses penyerapan cahaya oleh lapisan fotoresist standar. Di seluruh area proses, tingkat keseragaman suhu pada tingkat wafer tetap stabil pada kisaran ±0,1°C, sehingga profil pemanasan tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya.