Di lantai produksi, perubahan suhu sebesar 0,1°C selama proses pemanasan fotoresist sudah cukup untuk mengganggu keseragaman ketebalan lapisan fotoresist tersebut. Sekali terjadi perubahan seperti itu, berjam-jam kerja dalam proses litografi akan sia-sia. Oleh karena itu, kami menciptakan regulator daya tipe SCR untuk menjaga suhu lampu tetap stabil, dari shift ke shift, tahun demi tahun.
Yang penting secara teknis adalah adanya sistem kontrol berbasis silikon yang dilengkapi dengan umpan balik dari lampu itu sendiri. Sistem ini memungkinkan keluaran lampu tetap stabil meskipun tegangan listrik berfluktuasi. Nilai setpoint tetap berada dalam rentang ±0,1°C sepanjang proses pemanasan, sehingga proses pemanasan dapat berjalan secara konsisten.
Peralatan ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan tingkat penyebaran partikel dan emisi gas yang sangat rendah, sesuai dengan standar yang ketat. Koreksi faktor daya dan sistem pengalihan daya yang efisien membantu mengurangi konsumsi energi. Selain itu, kepala lampu mampu bertahan dalam siklus termal yang cepat tanpa retak atau terlepasnya lapisan-lapisan pada lampu tersebut.
Mengapa hal ini efektif dalam proses pengolahan wafer? Keseragaman suhu merupakan faktor penting untuk mengontrol ketebalan lapisan fotoresist dan meningkatkan tingkat hasil produksi. Dengan regulator tipe SCR yang menjaga suhu lampu tetap stabil, profil lapisan fotoresist akan tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya. Hal ini memungkinkan proses produksi berjalan secara konsisten, sehingga diperlukan sedikit sekali intervensi.
Ketahanan peralatan ini dirancang untuk operasi 24/7: tidak ada waktu henti yang tidak direncanakan, interval perawatan yang panjang, dan keluaran yang stabil selama lebih dari 5.000 jam. Dalam praktiknya, hal ini berarti kapasitas produksi yang lebih tinggi tanpa perlu menyimpan stok cadangan yang banyak.
Beberapa catatan praktis: Peralatan ini membutuhkan pasokan daya yang bersih dan sistem penggrounding yang baik, agar gangguan EMI dan fluktuasi tegangan tidak mempengaruhi kinerja peralatan. Jika peralatan ini digunakan dalam sistem pemanasan yang sudah ada, lakukan uji coba singkat untuk menyesuaikan nilai konstanta PID sesuai dengan beban lampu yang digunakan.
Proses kalibrasi dapat dilakukan dalam satu hari saja. Hanya perlu waktu singkat untuk menstabilkan suhu sistem saat memproses wafer pertama. Setelah disetel, proses produksi dapat berjalan secara konsisten tanpa perlu intervensi yang sering.