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		<title>Oxydation on Top-Rated Quartz IR Lamps</title>
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				<title>Élément chauffant par oxydation de wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://top-quartz-ir.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Élément chauffant par oxydation de wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le site de fabrication, les variations thermiques pendant l’oxydation ne se contentent pas d’affecter le taux de &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;rendement&lt;/a&gt; : elles le compromettent complètement. Quelques dizaines de milli-degrés de variation sur la surface du wafer entraînent une non-uniformité de l’épaisseur de l’oxide, un risque pour l’intégrité de l’oxide de grille, ainsi que des variations dans le processus de séchage du photorésistant. Tout cela a des conséquences directes sur la lithographie. Il est donc nécessaire d’utiliser des éléments de chauffage qui fassent partie inté&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;grante&lt;/a&gt; du processus de fabrication, et non des variables supplé&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;mentaires&lt;/a&gt; à gérer.&lt;/p&gt;</description>
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