Pada garis produksi sepanjang 300 mm, perubahan suhu sebesar 0,3°C selama proses pemanasan dapat menyebabkan nilai bias CD melebihi batas yang ditentukan, sehingga seluruh produk yang dihasilkan menjadi tidak layak digunakan. Anda tidak memerlukan variabel tambahan dalam proses pengontrolan suhu tersebut. Pemanas inframerah yang digunakan di ruang bersih kami dirancang untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut.
Yang penting secara teknis: Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah dengan respons cepat dan kontrol spektral yang akurat, sehingga cocok untuk proses penyerapan cahaya oleh lapisan fotoresist standar. Di seluruh area proses, tingkat keseragaman suhu pada tingkat wafer tetap stabil pada kisaran ±0,1°C, sehingga profil pemanasan tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya.
Bodi pemanas ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan memiliki emisi gas yang rendah, permukaannya halus, dan jalur aliran udaranya dirancang sedemikian rupa agar partikel-partikel tidak ikut terbawa. Tidak adanya partikel sama sekali bukanlah janji pemasaran semata, melainkan merupakan persyaratan yang sudah terintegrasi dalam desain pemanas tersebut, dan hal ini dapat dipastikan melalui pengawasan yang dilakukan.
Mengapa pemanas ini cocok untuk pabrik pembuatan semikonduktor: Di sini, proses pengolahan fotoresist memegang peran penting, seperti litografi, proses pemanasan, dan langkah-langkah lainnya. Pemanas inframerah memberikan respons termal yang diperlukan dalam oven berkapasitas tinggi, sementara desainnya yang sesuai untuk ruang bersih membantu menjaga kualitas produk tetap stabil.
Hasilnya adalah lebih sedikit wafer yang tidak layak digunakan, dimensi-komponen kritis yang tetap stabil, serta waktu proses yang dapat diprediksi. Penggunaan energi juga berkurang, karena pemanas dapat mencapai suhu yang ditentukan dengan cepat dan mempertahankannya tanpa melebihi batas yang ditentukan.
Apa yang perlu diketahui sebelumnya: Pemanas ini dapat digunakan pada antarmuka oven standar, tetapi massa termal ruangan dan pola beban tetap mempengaruhi tingkat keseragaman suhu. Pastikan Anda mengetahui ukuran wadah dan pola penempatan wafer dengan tepat, serta periksa pola aliran udara selama proses integrasi.
Dalam ruang yang sempit, tata letak pemancar inframerah mungkin memerlukan sedikit penyesuaian pada area pemanasan. Kami akan memberikan informasi mengenai kondisi batas awal agar oven dapat disesuaikan dengan proses yang dilakukan, bukan sebaliknya.