
Arrêtez de chauffer vos équipements : une façon plus intelligente de sécher les wafers MEMS
Lorsque vous voulez sécher les wafers des capteurs MEMS, il est essentiel d’éliminer toute l’humidité qui s’y trouve. Mais le problème, c’est que la plupart des gens essaient de le faire en chauffant tout ce qui se trouve à proximité.
La chaleur produite par les méthodes de chauffage conventionnelles ou omnidirectionnelles transforme votre coûteux équipement en un véritable four. Les parois intérieures absorbent toute cette chaleur, ce qui est problématique. On obtient ainsi des parois trop chaudes, ce qui peut endommager les opérateurs ou les joints internes de l’équipement. C’est un vrai désastre.
Nous avons trouvé une meilleure solution : le chauffage infrarouge directionnel.
Comment ça marche ?
Imaginez une lampe de poche, mais qui génère de la chaleur. Au lieu de chauffer l’air, les lampes à rayonnement infrarouge émettent des radiations électromagnétiques directement sur la surface du wafer. En choisissant les bonnes longueurs d’onde – généralement des ondes courtes ou moyennes – l’énergie atteint uniquement le wafer et les résidus liquides, sans se répandre ailleurs. Nous utilisons des enveloppes en quartz et des réflecteurs pour maintenir ce faisceau focalisé. La chaleur va donc exactement là où elle est nécessaire, et nulle part ailleurs.
Les défis liés à cette méthode
Le problème, c’est qu’il faut beaucoup d’énergie pour sécher rapidement ces wafers. Une haute densité thermique est utile pour accélérer le processus, mais cela entraîne des conséquences négatives. Ces lampes à haute puissance deviennent extrêmement chaudes aux extrémités. Si vous les branchez sans vérifier si vos connexions peuvent supporter le courant requis, vos prises risquent de fondre. C’est une erreur courante.
Même si le faisceau de chaleur est dirigé, il est encore nécessaire de placer des ventilateurs pour évacuer la chaleur loin des extrémités des lampes. Ne négligez pas cet aspect.
Un environnement plus sûr pour vos équipes
Le meilleur avantage ? L’effet “four” disparaît à l’intérieur de la chambre de traitement. Comme les parois ne absorbent plus la chaleur excédentaire, l’extérieur de l’équipement reste frais au toucher. Vous n’avez plus besoin d’installer des systèmes de protection thermique encombrants, ni de craindre que vos techniciens soient brûlés lorsqu’ils travaillent à l’intérieur.
C’est simplement une question de logique : arrêter de chauffer toute la pièce, et se concentrer uniquement sur la zone à chauffer.