Sur une ligne de 300 mm, une variation de température de 0,3 °C pendant le processus de cuisson peut faire en sorte que la valeur de balayage du CD dépasse les spécifications prévues, ce qui entraîne la perte d’un lot entier de produits. Il n’est donc pas nécessaire d’ajouter une autre variable au calcul thermique. Le Chauffage à infrarouges de nos fours de salle propre est conçu pour éliminer cette incertitude.
Ce qui est important sur le plan technique Nous utilisons des émetteurs à infrarouges à ondes courtes, capables de répondre rapidement et avec un contrôle spectral précis. Ces émetteurs sont adaptés à l’absorption par les couches de photorésiste standards. Dans toute la zone de traitement, l’uniformité de température reste à ±0,1 °C, et la reproductibilité des profiles de cuisson permet de garantir une qualité constante d’un lot à l’autre.
Le corps du chauffage est conçu pour fonctionner dans des salles propres de classe 1–100 : matériaux à faible émission de poussières, surfaces lisses, ainsi qu’un système de flux d’air conçu pour éviter l’accumulation de particules. L’absence totale de particules n’est pas juste une promesse commerciale : c’est une exigence intégrée dans la conception du chauffage, confirmée par des contrôles réguliers.
Pourquoi cela convient aux usines de production C’est ici que le traitement du photorésiste joue un rôle crucial : lithographie, cuisson douce, cuisson forte, etc. Les rayons infrarouges permettent d’obtenir la réponse thermique nécessaire dans un four à haut débit. De plus, la conception compatible avec les salles propres permet de maintenir les défauts à un niveau acceptable.
Les avantages sont nombreux : moins de wafers endommagés, des dimensions critiques stables, et des temps de traitement fiables. La consommation d’énergie diminue également, car le chauffage atteint rapidement la température désirée sans excès.
Ce que vous devez savoir à l’avance Le chauffage s’intègre facilement aux接口 standards des fours, mais la masse thermique de la chambre et la configuration de la charge influencent toujours l’uniformité de la température. Il est donc important de définir précisément la capacité du four et la manière dont les wafers y sont placés, et de vérifier le flux d’air pendant l’intégration.
Dans des espaces restreints, l’emplacement des émetteurs peut nécessiter quelques ajustements dans la zone de chauffage. Nous communiquons dès le début les conditions de fonctionnement afin que le four soit adapté au processus, et non l’inverse.